影响门牌石抛光的主要因素
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人气：631发表时间：2022-04-18
就抛光工艺而言，影响门牌石抛光的主要因素具体分为以下几点。
1、抛光剂的种类
抛光剂虽然是一种特殊的抛光材料，但它与研磨材料的区别主要在于加工机理。原则上，有一些低硬度的微粉材料也可以用作抛光剂。但通常高硬度抛光剂优于低硬度抛光剂，应用范围广泛。
2、抛光液（膏）
水是一种常用的抛光液。它不仅可以起到研磨和冷却的作用，还可以作为抛光过程中物理和化学作用的介质；如果门牌石的抛光以机械研磨为主，如采用金刚石粉，则抛光液一般采用油基有机液体，其冷却、润滑和分散性能极佳；也可以添加金刚石浆料，包括水和油，以及着色剂。其公式为：磨料+分散剂+载体+水+着色剂。
3、抛光盘
平面门牌石光面面板是门牌石平面磨削的表现形式，大部分采用金属材料制成的硬盘作为抛光盘使用。软盘抛光的抛光面适用于曲面抛光。中硬盘耐磨性好，吸附性好，有一定的弹性，对平面的门牌石抛光效果也比较好。
4、抛光工艺参数
工艺参数包括抛光剂的浓度和供给、抛光时的压力和线速度等。在浓度低于一定浓度之前，抛光速度随着抛光剂浓度的增加而增加。浓度达到最大值后，如果增加浓度，抛光速度反而会降低。类似地，当抛光剂的供给量为一定值时，抛光速度最大，之后如果继续增加供给量，则抛光速度反而降低。抛光时适当加大压力，可以提高抛光速度，但压力过大，研磨效果加强，不利于光泽面的形成。抛光速度取决于抛光盘的旋转速度，但如果线速度过大，抛光剂会被甩出，造成浪费。
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